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水冷無氧化烘箱,高溫?zé)o氧烘箱升溫方式:程序線性升溫 降溫方式:風(fēng)冷+水冷輔助降溫 氧含量:氧含量≤20ppm
真空無氧烤箱,無氧化真空烘箱用于光刻膠BCB,聚酰亞胺PI/CPI固化,BPO固化,LCP纖維熱處理,
前烘氮?dú)夂嫦洌埠鏉崈艉嫦鋬?yōu)化光刻膠的光學(xué)吸收特性,提高光刻膠對(duì)襯底的黏附性
外延片烘箱,氮?dú)鉂崈艉嫦溲悠瑢⑺鐾庋悠湃牒嫦渲?在120℃~140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10~30分鐘
墨點(diǎn)烘箱,墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦涫前雽?dǎo)體行業(yè),芯片加工工藝流程中打墨點(diǎn)工藝后,將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干專用設(shè)備。